Altar of Evil/zh-hans: Difference between revisions
From Elwiki
m
Text replacement - "Mega Electron Ball : Justice " to "Mega Electron Ball : Justice"
m (Text replacement - "Mega Electron Ball" to "Mega Electron Ball : Justice ") |
m (Text replacement - "Mega Electron Ball : Justice " to "Mega Electron Ball : Justice") |
||
| Line 144: | Line 144: | ||
*由于在魔气暴走期间无法使用别的技能，因此最好在使用之前多上几个Buff技能。 | *由于在魔气暴走期间无法使用别的技能，因此最好在使用之前多上几个Buff技能。 | ||
*在黑暗破坏连段中如果不按下第四个 {{CZ}} 的话，那么第三个 {{CZ}} 的连击数将由3+2变为2+4。 | *在黑暗破坏连段中如果不按下第四个 {{CZ}} 的话，那么第三个 {{CZ}} 的连击数将由3+2变为2+4。 | ||
*{{CX}}{{CX}}{{CHoldX}} 中的 {{CHoldX}} 与[[Mega Electron Ball : Justice /zh-hans|电磁之核]]有些相似，在蓄力的过程中可以进行其他的动作。然而使用技能或者进入传送阵会打断连段。 | *{{CX}}{{CX}}{{CHoldX}} 中的 {{CHoldX}} 与[[Mega Electron Ball : Justice/zh-hans|电磁之核]]有些相似，在蓄力的过程中可以进行其他的动作。然而使用技能或者进入传送阵会打断连段。 | ||
**这些追踪长枪在穿透敌人后可以再次返回该目标的身上造成第二次伤害，最多对单体可以造成6~16次爆炸伤害（117%的物理伤害），因此对近距离的敌人能够造成十分可观的伤害。 | **这些追踪长枪在穿透敌人后可以再次返回该目标的身上造成第二次伤害，最多对单体可以造成6~16次爆炸伤害（117%的物理伤害），因此对近距离的敌人能够造成十分可观的伤害。 | ||
*进入魔气暴走后，要小心露成为一个移动靶子。 | *进入魔气暴走后，要小心露成为一个移动靶子。 | ||
