Ultra Optical Investigation/zh-hans: Difference between revisions
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{| cellpadding="5" style="border-collapse: collapse; border: 0px solid rgb(0, 0, 0);" | {| cellpadding="5" style="border-collapse: collapse; border: 0px solid rgb(0, 0, 0);" | ||
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| [[Image: | | [[Image:CodeBattleSeraphPassive1.png]]<br>[[File:CodeBattleSeraphPassive1A.png]] | ||
| {{SkillTypeCN|P}} 伊芙通过光学研究加强力场功能，使力场变更动作消失，每隔0.5秒就可以进行切换，并增加通过[[El Crystal Spectrum/zh-hans|聚光场]]的力场反应攻击的大小。 | | {{SkillTypeCN|P}} 伊芙通过光学研究加强力场功能，使力场变更动作消失，每隔0.5秒就可以进行切换，并增加通过[[El Crystal Spectrum/zh-hans|聚光场]]的力场反应攻击的大小。 | ||
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| Line 22: | Line 22: | ||
== 技能信息 == | == 技能信息 == | ||
{| cellpadding="5" border="1" style="border-collapse: collapse; text-align: center" | {| cellpadding="5" border="1" style="border-collapse: collapse; text-align: center" class="colortable-Eve" | ||
|- | |||
! rowspan=2 | 技能等级 !! rowspan=2 | 所需等级 !! rowspan=2 | 聚光场大小增幅增加 !! colspan=2 | | ! rowspan=2 | 技能等级 !! rowspan=2 | 所需等级 !! rowspan=2 | 聚光场大小增幅增加 !! colspan=2 | 通过光谱后 | ||
|- style="background:{{ColorSel|CharLight|Eve}}" | |- style="background:{{ColorSel|CharLight|Eve}}" | ||
! 暴击 !! 极大化 | ! 暴击 !! 极大化 | ||
| Line 39: | Line 39: | ||
=== 反应场信息 === | === 反应场信息 === | ||
{| cellpadding="5" border="1" style="border-collapse: collapse; text-align: center" | {| cellpadding="5" border="1" style="border-collapse: collapse; text-align: center" class="colortable-Eve" | ||
|- | |||
! 最大连击数 !! 射线/电磁伤害 | ! 最大连击数 !! 射线/电磁伤害 | ||
|- | |- | ||
| Line 66: | Line 66: | ||
*2015年2月5日 韩服 | *2015年2月5日 韩服 | ||
**聚光场大小增幅增加量增加。 | **聚光场大小增幅增加量增加。 | ||
*2018年9月20日 韩服 | |||
通过光谱后增加暴击概率量增加。 | |||
通过光谱后增加极大化效果增加。 | |||
<br> | <br> | ||
{{CBSSkillsCN}} | {{CBSSkillsCN}} | ||
[[Category:2转被动技]] | [[Category:2转被动技]] | ||