Dark Plasma/zh-hans: Difference between revisions

From Elwiki
No edit summary
Line 15: Line 15:
{| cellpadding="5" border="1" style="border-collapse: collapse; text-align: center"
{| cellpadding="5" border="1" style="border-collapse: collapse; text-align: center"
|- style="background:{{ColorSel|CharLight|Lu/Ciel}}"
|- style="background:{{ColorSel|CharLight|Lu/Ciel}}"
! 职业 !! 所需等级 !! [真]所需等级 !! 技能需求
! 职业 !! 所需等级 !! 技能需求
|-
|-
| [[Diabla/zh-hans|深渊邪灵]] || 35 || 88 || [[Altar of Evil/zh-hans|罪恶祭坛]]
| [[Diabla/zh-hans|深渊邪灵]] || 35 || [[Altar of Evil/zh-hans|罪恶祭坛]]
|}
|}
<br>
<br>
Line 29: Line 29:
| align="left" | 35 || 281% || rowspan=2 | 23 || rowspan=2 | 300 MP || rowspan=2 | 19 秒
| align="left" | 35 || 281% || rowspan=2 | 23 || rowspan=2 | 300 MP || rowspan=2 | 19 秒
|-
|-
| align="left" | [真] 88 || 337%
| align="left" | [真] || 337%
|}
|}
<br>
<br>
Line 40: Line 40:
| align="left" | 35 || 123%
| align="left" | 35 || 123%
|-
|-
| align="left" | [真] 88 || 138%
| align="left" | [真] || 138%
|}
|}
<br>
<br>

Revision as of 08:07, 17 August 2017

[特殊活性:超越的] 露在指尖聚集体内所有的魔气,然后全部发射出去,用黑暗侵袭前方的所有敌人。
因力量激流而最终强化的技能
  • 伤害增加到1.2倍。


需求

职业 所需等级 技能需求
深渊邪灵 35 罪恶祭坛


技能信息

副本

所需等级 伤害(物理) 最大连击数 MP消耗 冷却时间
35 281% 23 300 MP 19 秒
[真] 337%


对战

所需等级 伤害(物理)
35 123%
[真] 138%


细节与贴士

  • 虽然黑暗等离子的X轴攻击范围看上去和某些超技能一样远,但实际判定大约只跟爆发激光时间终结差不多。


花絮

  • 虽然技能描述中提到露为了黑暗等离子使用了全部的魔气,但是奇怪的是使用后并不会直接结束魔气暴走状态。


更新

  • 2016年11月3日 韩服
    • 修复不受艾尔共鸣的MP消耗减少效果支援的BUG。
  • 2017年1月12日 韩服
    • 伤害减少。
  • 2017年4月13日 韩服
    • 修复不受英雄装备的“使用超越的技能时,超越的技能伤害10秒内+*%(5重)”支援的BUG。
  • 2017年4月27日 韩服
    • 副本伤害增加。
    • 对战伤害减少。
  • 2017年7月27日 韩服
    • 伤害增加。